| 品牌：Ossila | 是否进口：是 | 型号：L2002A3 |
| 是否支持加工定制：否 | 电源：220 | 灯源：紫外线汞灯 |
| 处理基片尺寸：直径高达153毫米(6英寸) | 处理基片最大厚度：12毫米 | 操作界面：LCD显示屏 |
| 设备尺寸：210毫米x 228毫米x 310毫米 | 应用范围：表面清洁和表面处理 |
我们所提供的Ossila紫外臭氧清洗机系统是一种简单，经济，高效的材料表面清洗设备。只需把样品放置到托盘上，关上舱门，设置时间，按下运行按钮，就可以在几分钟内，快速去除大多数无机基材上的有机污染物，为您提供超洁净的表面。通过使用高功率紫外线光源产生臭氧，将污染物分解成挥发性化合物。这些挥发性化合物从表面蒸发而不留痕迹。这种方法可产生接近原子级的清洁表面并且不会损坏样品。
应用工艺：
改善表面亲水性
表面清洗
准备薄膜沉积
表面处理
紫外固化
表面灭菌消毒
去除表面单分子膜
表面氧化
清洗AFM / STM探针
清洗光学元件
可清洗的基材示例：
石英
硅
氧化硅
氮化硅
金
镍
铝
砷化镓
矾土
玻璃
不锈钢
可去除的污染物示例：
光刻胶
树脂
人体皮肤油脂
清洗溶剂的残留物
塑料/硅片表面油渍
助焊剂
产品特点：
成本低；
120x120mm样品台；
处理样品高度为14mm；
抽屉式样品台，简单方便；
样品台自安全联锁，防止对人身伤害；
LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”；
60分钟计时器；
高强度紫外线灯源；
可控温的样品台；
样品清洗无需溶剂；
超净表面。
下图显示了UV臭氧处理对基材的影响，以改善表面亲水性。
水滴在OTS处理的硅基底(300纳米二氧化硅表面)上，经过紫外臭氧清洗处理前（左图）和处理后（右图）的效果对比。
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