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光学膜厚仪 扫描型 膜厚测量 FR-Scanner 测厚仪
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光学膜厚仪 扫描型 膜厚测量 FR-Scanner 测厚仪

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品牌:希腊ThetaMetrisis是否进口:是型号:FR-Scanner
是否支持加工定制:否电源:230功率:300
光源:卤素用途范围:薄膜表征、测厚R /角度分辨 率:5um/0.1°
处理样片尺寸:直径***300mm扫描速度:300meas / min(8英寸晶圆尺寸)

FR-Scanner扫描型膜厚仪


FR-Scanner是一款紧凑的台式工具,适合于通过测量大型基材上的薄膜和涂层的反射率来自动表征。FR-Scanner是快速,准确地绘制膜的厚度,折射率,均匀性,颜色等信息的理想工具。真空吸盘可容纳任何直径/形状的晶圆。在625个点上对8英寸Si晶片的典型扫描耗时不到60秒。光学头遵循独特的设计,可容纳光谱仪,混合光源和所有其他光学部件。在这种设计中,没有任何弯曲或移动的纤维,因此,在精度,可重复性和长期稳定性方面都***了***性能。此外,特别设计的光源提供***的寿命长达10000小时。

凭借其强大而独特的光学和机械设计,FR-Scanner可以旋转载物台并在顶部线性移动光学头(极坐标扫描),从而以极高的速度扫描被测样品。通过这种方式,可以在非常短的时间内记录具有高重复性的准确反射率数据,从而使FR-Scanner成为在线或在线表征加工设备中的晶圆或其他基板的理想工具。此外,笛卡尔扫描模型可以与透射率套件结合使用,并支持反射率和透射率测量。在透射模式下,还支持薄膜厚度和折射率测量(例如,用于石英或透明晶片)。

FR-Scanner 扫描型光学膜厚仪主要由以下系统组成:

光学光源装置

1)小型低功率混合式光源

本系统混合了白炽灯和LED灯,最终形成光谱范围360nm- 1100nm;该光源系统通过微处理控制,光源平均寿命超10000小时;

集成小型光谱仪,光谱范围360-1020nm,分辨精度 3648像素CCD 和 16位 A/D 分辨精度;

2)集成式反射探针,6组透射光探针(200um),1组反射光探针,探针嵌入光源头,可修整位置,确保探针无弯曲操作;

3)光源功率:3W;

超快扫描系统

1)平面坐标内,可进行625次测量/分钟 (8’’wafer) 或500次测量/分钟(300mm wafer). 全速扫描时,扫描仪的功率消耗不超过200W;

2)样品处理台:样品处理尺寸可达300mm. 可满足所有半导体工艺要求的晶圆尺寸。手动调节测量高度可达25mm;配有USB通讯接口,功率:100 - 230V 115W;

FR-Monitor膜厚测试软件系统,可***计算如下参数:

1)单一或堆积膜层的厚度;

2)静态或动态模式下,单一膜层的折射率;本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库,可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率,透射率和反射率的测量,还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱,一次使用授权,即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用。

参考样片:

1)经校准过的反射标准硅片;

2)经校准过的带有SiO2/Si 特征区域的样片;

附件:

可定制适用于半导体工艺的任何尺寸的晶圆片(2”, 3”, 4”, 5”, 6”, 200mm, 300mm);



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