| 是否进口：否 | 加工定制：否 | 品牌：nTact |
| 型号：nRad |
高效的材料利用率和最少的浪费
基于槽模的沉积技术
涂布厚度范围：从20nm到100μm
均匀度为 ±3％，
效***/材料利用***:材料利用率可达95%
从研发到小批量试制、大量生产满足不同需求
支持各种基材（刚性或柔韧性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）
适用于各种应用（平板显示器、触摸屏、光伏（薄膜和硅）、柔性电子产品、光学薄膜）
选项：
完全大气或惰性隔离，可在低氧/低湿环境下进行处理
真空吸盘可用于各种基板，包括显示器玻璃和柔性塑料薄膜以及硅pv晶片
工艺材料和基材的独立温度控制
槽模由各种合金制成，用于腐蚀性材料的加工
用于机器人装载/卸载的基板提升机构
参数
基板尺寸：标准150mm 值210-300mm 150或200mm晶圆选项
基板类型：玻璃、塑料、金属箔、硅片 刚性或柔韧性
涂层厚度范围：20nm to 100um
涂层均匀性：对于超过150nm的薄膜，±3％或更好，对于50和150nm的薄膜，±5％或更好
涂料粘度范围：标准1至70 cp
系统尺寸: L: 911mm w: 578mm h:645mm 170千克/ 380ibs
