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Micro Resist光刻胶
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Micro Resist光刻胶

产品标签  | 光刻胶

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Micro Resist光刻胶

非常适合作为刻蚀掩模，极好的抗干刻、湿刻性能；优异地利用PVD和lift-off加工进行图案转移能力；优异的电镀性能（酸和碱性镀液中极高的稳定性）；光刻胶图案良好的热稳定性；碱性水溶液下显影

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    是否进口：否加工定制：否品牌：Micro Resist
    型号：ma-N 400 ma-N 1400

    Micro Resist光刻胶详细介绍

    非常适合作为刻蚀掩模，极好的抗干刻、湿刻性能；
    优异的电镀性能（酸和碱性镀液中极高的稳定性）

    光刻胶图案良好的热稳定性；碱性水溶液下显影；
    宽带、g或i线曝光


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