| 品牌：丹麦NIL | 是否进口：是 | 型号：CNI v3.0-100 |
| 是否支持加工定制：否 | 电源：220 | 用途范围：桌面纳米压印工具，轻松复制微米和纳米级结构 |
| 处理基片尺寸：***直径可达210mm（8英寸） | 压印压力范围：0.3bar ~ 11 bar | 热压印处理温度：高达250℃ |
| 紫外压印波长范围：365nm | 压模和基材的总高度：可达20mm |
CNI v3.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，可处理210mm（8英寸）圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。
特色：
在过去的五年中，基于石墨烯的气体传感器引起了很大的兴趣，显示出了单分子检测的优势。 最近的研究表明，与未构图的层相比,构图石墨烯可大大提高灵敏度。
通过标准程序生长CVD石墨烯，然后转移到Si/SiO 2模板上进行进一步处理。 如（Mackenzie，2D Materials，使用物理阴影掩模和激光烧蚀来定义接触和器件区域。
使用软压印在CNI v2.0中进行热纳米压印光刻，将mr-I7010E压印抗蚀剂在130℃，6bar压力下压印10分钟，压力在70℃下释放。
通过反应离子蚀刻将边缘到边缘间隔为120-150nm的大面积图案的孔转移到石墨烯中，并且用丙酮除去残留的抗蚀剂。
发现器件具有大约的载流子迁移率发现器件在加工前具有约2000cm2/Vs的载流子迁移率，之后具有400cm2/Vs的载流子迁移率处理，同时保持整体低掺杂水平。
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