| 是否进口：否 | 产品名称：光刻胶 |
光刻胶应用于模拟半导体，应用于发光二极管，微机电系统，太阳能光伏，微流体&生物芯片，光电子学/光子学，半导体封装，临时粘接，保护涂层，平坦化，平面光刻艺术。
· NR9-PY 系列负性光刻胶，适用于lift-off工艺；具有高效粘附性，高反应速度并耐高温性能好。
· NR71-PY 系列 负性光刻胶，适用于lift-off工艺，耐高温性能好并可作***隔层。
· NR9-P 系列 负性光刻胶，具有高粘附性适用于电镀及湿法蚀刻。
· NR71-P 系列 负性光刻胶，用于干法蚀刻中掩模应用并能作为***隔层。
· NR21-P 系列 负性光刻胶，用于厚度超过100μm并具有极高的分辨率。
· NR5 系列 NR5-系列负性光刻胶，用于深度离子蚀刻（RIE）中的厚膜掩膜工艺。
· PR1 系列 正性光刻胶，用于光刻，蚀刻和高温制程。
· IC1/DC5 系列 作为电介质和滤波应用的旋涂材料
· PC4 系列 产品可用于平坦化，临时行粘接层和保护涂层。
· BDC1/PDC1/ZPDC1 系列 产品可作为高效参杂层，代替昂贵的CVD参杂工序。
· RD6系列 光刻胶显影液，可用于正负型光刻胶且显影速度快。
· RR41 & 5系列 化学品，具有独特性能的光刻胶去胶液，并能安全的去除多种临时涂层，且与Si、III/V基衬底、II/VI衬底、氧化铟锡(ITO)及铜、钛、TiW、金、铂、铝、镍、银合金等所有传统金属***相容。
· EBR2 系列 产品为高效的边胶清洗液。
· NR71/9-PY-series 光刻胶，可用于lift-off工艺
· NR9-P系列光刻胶 使用于要求高粘附性的一般光刻应用
· NR71/9-PY-series 光刻胶 可用于lift-off工艺。
